| 热处理温度对PST铁电薄膜微结构的影响 |
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| 引用本文： | 曾亦可,胡勇,肖腊连,李秀峰. 热处理温度对PST铁电薄膜微结构的影响[J]. 华中科技大学学报(自然科学版), 2005, 33(6): 92-94 |
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| 作者姓名： | 曾亦可 胡勇 肖腊连 李秀峰 |
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| 作者单位： | 华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金重大研究计划资助项目(90201028)，国家高技术发展研究计划新材料领域资助项目(2002AA325080)，先进制造与自动化技术领域资助项目(2003AA404150). |
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| 摘 要： | 以Pb(OOCCH3)2·3H2O,Sc(OOCCH3)3·xH2O和Ta(OC2H5)5为原材料,用SolGel方法在Pt/Ti/SO2/Si(100)基片上成功地制备出厚度达1.5μm,无裂纹的PbSc0.5Ta0.5O3(PST)铁电薄膜.对(220)主晶向生长的PST薄膜分别在10～20min、650～800℃范围内进行热处理,结果表明:热处理温度在750℃时,PST薄膜转变为较为完整的ABO3型钙钛矿晶相结构,更高的温度将提高晶粒在(220)方向的取向度.实验发现,最佳热处理条件应为750℃×15min,该条件下制备的PST铁电薄膜呈蓝黑色,表面光亮.
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| 关 键 词： | 铁电薄膜 溶胶-凝胶 热释电性 |
| 文章编号： | 1671-4512(2005)06-0092-03 |
| 修稿时间： | 2004-09-01 |
Effect of heat treat temperature on the microstructure of PbSc0.5Ta0.5O3 ferroelectric thin films |
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| Zeng Yike,Hu Yong,Xao Lalian,Li Xiufeng. Effect of heat treat temperature on the microstructure of PbSc0.5Ta0.5O3 ferroelectric thin films[J]. JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE, 2005, 33(6): 92-94 |
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| Authors: | Zeng Yike Hu Yong Xao Lalian Li Xiufeng |
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| Affiliation: | Zeng Yike Hu Yong Xao Lalian Li Xiufeng Zeng Yike Assoc. Prof., Dept. of Electronics Sci. & Tech.,Huazhong Univ. of Sci. & Tech.,Wuhan 430074,China. |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ferroelectric thin films Sol-Gel pyroelectric properties |
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