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等离子体微弧氧化技术及其应用
作者姓名:张欣宇 石玉龙
摘    要:等离子体微弧氧化是一种直接在有色金属表面原位生长陶瓷膜的新技术。本研究详细介绍了微弧氧化技术的发展历史和研究现状,微弧氧化的基本原理,制备方法,工艺特点,以及膜层的结构和性能特点,并对这种陶瓷膜层的应用予以展望。

关 键 词:等离子体 微弧氧化技术 应用 陶瓷膜层 应用
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