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Pb/PbSe Schottky势垒结研究
引用本文:方龙森.Pb/PbSe Schottky势垒结研究[J].上海交通大学学报,1991,25(1):81-86.
作者姓名:方龙森
作者单位:上海科技大学物理系
摘    要:本文对形成Ⅳ-Ⅵ族PbSe 金属-半导体肖特基势垒结之工艺和为了提高该器件的R_0A 值,将氯化物作为Pb/PbSe 界面的机理作了研究.本文还研究了具有PbCl_x 界面的PbSe 肖特基势垒结的特性模型化,同时给出了R_0,n,R_(SH),和Φ_B 等模型参数的提取方法.测量表明具有界面层的Pb/PbSe势垒结显示了良好的电学性能.

关 键 词:界面层  肖特基势垒结  Pb  PbSe

A Studv of Pb/PbSe Schottkv Barrier Junction
Fang Longsen.A Studv of Pb/PbSe Schottkv Barrier Junction[J].Journal of Shanghai Jiaotong University,1991,25(1):81-86.
Authors:Fang Longsen
Institution:Fang Longsen
Abstract:
Keywords:Schottky barrier  modeling PbSe  interface layer
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