以低纯度Gd为原料制备Gd5Si1.85Ge2.15合金的磁热效应 |
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作者姓名: | 龙毅() 陈艳平() 李丽辉() 李春和() 万发荣() 柳祝红() 吴光恒() |
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作者单位: | 龙毅(北京科技大学材料学院,北京,100083);陈艳平(北京科技大学材料学院,北京,100083);李丽辉(北京科技大学材料学院,北京,100083);李春和(北京科技大学材料学院,北京,100083);万发荣(北京科技大学材料学院,北京,100083);柳祝红(中国科学院物理研究所磁学实验室,北京,100080);吴光恒(中国科学院物理研究所磁学实验室,北京,100080) |
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基金项目: | 本工作为国家自然科学基金(批准号: 50071006)和国家"八六三"计划基金(批准号: 2002AA324101)资助项目. |
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摘 要: | 研究了以低纯度蒸馏Gd为原料制备的Gd5Si1.85Ge2.15合金的磁性相变性质和磁热效应. 蒸馏Gd的杂质含量为O: 0.0160% (质量百分数); C: 0.0054% (质量百分数); N: 0.0016% (质量百分数), 低于普通商用Gd, 高于高纯Gd. 对Gd5Si1.85Ge2.15合金的X射线衍射和交流磁化率测试表明, Gd5Si1.85Ge2.15合金在253 K存在一级磁性相变; 从磁性相变附近的磁化曲线结果得到的最大磁熵变化为12.5 J/kg·K.
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关 键 词: | 磁热效应 一级磁性相变 磁制冷 |
收稿时间: | 2002-12-18 |
修稿时间: | 2002-12-18 |
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