| 铜氧化过程中其表面"非晶膜"的AES和HREM分析 |
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| 引用本文： | 徐淑华,张云芝,关若男,李日升,于赢大. 铜氧化过程中其表面"非晶膜"的AES和HREM分析[J]. 华南理工大学学报(自然科学版), 2000, 28(8): 55-60 |
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| 作者姓名： | 徐淑华 张云芝 关若男 李日升 于赢大 |
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| 作者单位： | 1. 华南理工大学,应用物理系,广东,广州,510640
2. 中国科学院,金属研究所固体原子象开放实验室,辽宁,沈阳,110015 |
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| 摘 要： | 利用电子显微阄中的电子束对铜的薄膜样品进行了连续的照射和跟踪观察，结果发现，Ｃｕ在氧化过程中首先出现的是一层非晶膜，这层晶膜在电子束的照射下转变成了Ｃｕ的晶体氧化物，ＡＥＳ和ＨＲＥＭ分别结果表明，Ｃｕ表面出现的这层非晶膜，它的主要成分为Ｃｕ和Ｏ，在铜的氧化过程中起着一种氧化界面的作用，也就是说，Ｃｕ的氧化要经历两个阶段，首先是Ｃｕ与Ｏ结合形成非晶膜，接着非晶膜在适当的时候转变为铜的晶态氧化物。
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| 关 键 词： | 非晶膜 氧化 铜 晶态氧化物 |
| 修稿时间： | 1998-12-04 |
HREM and AES Study on the Amorphous Layer Formed on the Surface of Copper During Copper Oxidation |
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| XU Shu-hua,ZHANG Yun-zhi,GUAN Ruo-nan,LI Ri-sheng,YU Ying-da. HREM and AES Study on the Amorphous Layer Formed on the Surface of Copper During Copper Oxidation[J]. Journal of South China University of Technology(Natural Science Edition), 2000, 28(8): 55-60 |
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| Authors: | XU Shu-hua ZHANG Yun-zhi GUAN Ruo-nan LI Ri-sheng YU Ying-da |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | amorphous layer electron beam irradiation oxidation |
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