| 退火温度对ZrW2O8薄膜结构和结合力的影响 |
| |
| 引用本文： | 程晓农,刘红飞,张志萍,徐红星,徐桂芳.退火温度对ZrW2O8薄膜结构和结合力的影响[J].江苏大学学报(自然科学版),2008,29(2):127-130. |
| |
| 作者姓名： | 程晓农 刘红飞 张志萍 徐红星 徐桂芳 |
| |
| 作者单位： | 江苏大学,材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50372027)，江苏省高校自然科学重大基础研究项目(06KJA43010)，江苏省薄膜材料重点实验室开放基金资助项目，江苏大学博士创新基金资助项目 |
| |
| 摘 要： | 采用纯ZrW2O8陶瓷靶材,以射频磁控溅射法在石英基片上沉积制备了ZrW2O8薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、划痕仪和表面粗糙轮廓仪研究了薄膜的相组成、表面形貌、薄膜与基片之间的结合力和薄膜厚度.试验结果表明:磁控溅射制备的薄膜为非晶态,在740℃热处理3 min后得到三方相ZrW2O8薄膜,在1 200℃封闭试样的条件下热处理8 min淬火得到立方相ZrW2O8薄膜;随着热处理温度的提高,薄膜的晶粒逐渐长大,平滑致密的表面出现了一些孔洞和缺陷,同时薄膜与基片之间的结合力也逐渐降低.
|
| 关 键 词： | 钨酸锆 薄膜 磁控溅射 热处理 结合力 |
| 文章编号： | 1671-7775(2008)02-0127-04 |
| 修稿时间： | 2007年3月23日 |
Effects of annealing temperature on microstructure and cohesion of ZrW2O8thin films |
| |
| CHENG Xiao-nong,LIU Hong-fei,ZHANG Zhi-ping,XU Hong-xing,XU Gui-fang.Effects of annealing temperature on microstructure and cohesion of ZrW2O8thin films[J].Journal of Jiangsu University:Natural Science Edition,2008,29(2):127-130. |
| |
| Authors: | CHENG Xiao-nong LIU Hong-fei ZHANG Zhi-ping XU Hong-xing XU Gui-fang |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | ZrW2O8 thin film magnetron sputtering thermal treatment cohesion |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
