| 考虑工艺参数变化的安全时钟布线算法 |
| |
| 引用本文： | 蔡懿慈,熊焰,洪先龙,刘毅.考虑工艺参数变化的安全时钟布线算法[J].中国科学(E辑),2005,35(8):887-896. |
| |
| 作者姓名： | 蔡懿慈 熊焰 洪先龙 刘毅 |
| |
| 作者单位： | 1. 中国科学技术大学计算机科学与技术系,合肥,230026;清华大学计算机科学与技术系软件研究所,北京,100084
2. 中国科学技术大学计算机科学与技术系,合肥,230026
3. 清华大学计算机科学与技术系软件研究所,北京,100084 |
| |
| 基金项目： | “八六三”国家高技术研究发展计划（2005AA1Z1230）及国家自然科学基金项目（批准号：90307017）资助项目 |
| |
| 摘 要： | 在超深亚微米（VDSM）工艺下，由光刻工艺带来的光学邻近效应不可忽略，时钟偏差受到光学邻近效应等工艺参数变化的影响非常严重。提出了一种带缓冲器插入的安全时钟布线算法，来防止因光学邻近造成线宽变化对时钟系统的影响。该算法提出了“分支敏感因子”（BSF）的概念，通过构造特殊的树型拓扑结构和布线过程中的缓冲器插入等操作，达到总体布线长度和偏差灵敏度的平衡．实验结果表明，算法可以得到一个抗光学邻近效应工艺参数变化的可靠时钟布线树，时钟偏差被有效地控制在合理范围之内。
|
| 关 键 词： | 时钟布线 工艺参数变化 时钟偏差 分支敏感因子 缓冲器插入 时钟布线算法 光刻工艺 参数变化 安全 光学邻近效应 |
| 收稿时间： | 2005-01-28 |
| 修稿时间： | 2005-01-282005-06-23 |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
