| 高纯电容铝箔中残留杂质化合物的研究 |
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| 引用本文： | 崔祺,张伟斌.高纯电容铝箔中残留杂质化合物的研究[J].中南大学学报(自然科学版),1986(3). |
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| 作者姓名： | 崔祺 张伟斌 |
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| 作者单位： | 中南矿冶学院材料科学与工程系，中南矿冶学院材料科学与工程系 |
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| 摘 要： | 本文通过电镜观察和电子计算机运算,标定了高纯电容铝箔经不同温度淬火后残留杂质化合物的成分和结构,同时研究了电阻率、显微硬度随热处理条件而变化的规律。TEM观察表明:500℃/5min淬火后,残留化合物有FeAl_6、FeAl_3,α-AlFeSi和其它杂质粒子。500℃/min淬火后,残留化合物有(AlFeSi)T相粒子和其它杂质粒子。600℃/5min淬火,没有杂质粒子存在。由电阻率和显微硬度的变化规律说明,杂质粒子在淬火过程中发生溶解。完成溶解过程所需要的时间随淬火温度上升而缩短,在500℃时约15min,550℃时约10min,600℃时约5min。杂质的存在状态对铝箔比电容影响很大。SEM观察表明:杂质以第二相粒子形式存在将造成腐蚀不均,比电容下降。杂质固溶于铝基体中,腐蚀不均现象可以避免或减弱,比电容上升。
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| 关 键 词： | 电容铝箔 杂质化合物 比电容 |
A STUDY OF IMPURITY COMPOUNDS REMAINING IN HIGH PURITY ALUMINIUM FOIL FOR ELECTROLYTIC CAPACITORS |
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| Cui Qi,Zhang Weibin.A STUDY OF IMPURITY COMPOUNDS REMAINING IN HIGH PURITY ALUMINIUM FOIL FOR ELECTROLYTIC CAPACITORS[J].Journal of Central South University:Science and Technology,1986(3). |
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| Authors: | Cui Qi Zhang Weibin |
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| Institution: | Cui Qi;Zhang Weibin Department of Materials Science and Engineering |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | High purity aluminium foil for electrolytic capacitors Impurity compounds Specific capacitance |
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