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单带差超晶格中ZnS薄膜的制备及其性质
引用本文:孟奕峰.单带差超晶格中ZnS薄膜的制备及其性质[J].四川大学学报(自然科学版),2010,47(2).
作者姓名:孟奕峰
基金项目:国家自然科学基金,国家高技术研究发展计划
摘    要:近年来,半导体超晶格材料在太阳电池方面的应用,越来越受到人们的广泛重视。本实验利用射频磁控溅射法制备了单带差超晶格中ZnS薄膜。通过XRD和AFM的观察,对其结构进行了研究,并确定了制备均匀致密的多晶ZnS薄膜的最佳条件。此外,对300℃和400℃衬底温度下的ZnS薄膜的光透过谱和吸收谱进行了对比,计算出了溅射法制备的ZnS薄膜的光能隙分别为3.82eV、3.81eV,与理论值一致。这种高透过率、均匀致密的ZnS薄膜可用于研制新型高效率的单带差超晶格ZnS/CdS/P-CdTe太阳电池。

关 键 词:射频磁控溅射法、ZnS薄膜、单带差超晶格、ZnS/CdS/P-CdTe太阳电池
修稿时间:4/2/2009 12:00:00 AM

Preparation and Performance of ZnS thin films used in single offset superlattice
Meng Yi-Feng.Preparation and Performance of ZnS thin films used in single offset superlattice[J].Journal of Sichuan University (Natural Science Edition),2010,47(2).
Authors:Meng Yi-Feng
Abstract:
Keywords:
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