NiW合金基带表面c(2×2)-S超结构的硫化处理 |
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作者姓名: | 王雪 李成山 于泽铭 樊占国 |
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作者单位: | 1. 东北大学材料与冶金学院,辽宁沈阳,110819 2. 西北有色金属研究院,陕西西安,710016 |
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基金项目: | 国家高技术研究发展计划项目(2009AA032401);陕西省自然科学基金资助项目(2009JM6002);中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(N090602008) |
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摘 要: | 由于硫元素与氧元素化学特性相近,利用硫在Ni基带表面形成的c(2×2)-S超结构可以有效地控制氧化物缓冲层在Ni基带表面的织构.本研究提出将单质硫在120℃下挥发,利用单质硫在基带表面的吸附与脱附形成有序c(2×2)-S超结构的新技术路线.X光电子能谱(XPS)结果显示,采用新技术处理的金属基带表面有明显的硫元素,基带表面Ni和S的原子比例符合c(2×2)结构中S的覆盖度,即0.5的要求.在经过硫化处理后的NiW基带表面制备缓冲层,结果显示,新硫化处理技术改善了NiW基带表面的物理化学特性,有利于氧化物缓冲层的外延生长.
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关 键 词: | 硫化 c(2×2)-S 超结构 NiW基带 缓冲层 |
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