首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

用神经网络研究大规模集成电路中的电迁移模型
引用本文:胡北来,李志国,等.用神经网络研究大规模集成电路中的电迁移模型[J].南开大学学报,2001,34(2):67-70.
作者姓名:胡北来  李志国
作者单位:[1]南开大学物理学院,天津300071 [2]北京工业大学电子工程系,北京100022
基金项目:National Science Foundation of China (69936020) and Beijing Natural Science Foundation (69774018)
摘    要:本文用ADALine模型来解Black方程并用背传模型预测了中值于效,其它没有包括在Black方程中的参数例如线的宽度也都用了背传模型中,本文给出了结果显示人工神经网络是研究金属合金中电迁移特性的非常强有力的手段之一。

关 键 词:电迁移  中值失效时间  Black方程  神经网络  背传模型  大规模集成电路  ADALine模型
文章编号:0465-7942(2001)02-0067-04
修稿时间:2000年6月30日

STUDY ON VLSI ELECTROMIGRATION MODEL WITH NEURAL NETWORKS
HU Beilai ,LI Zhiguo ,ZHENG Gang ,ZHU Xiaoming.STUDY ON VLSI ELECTROMIGRATION MODEL WITH NEURAL NETWORKS[J].Acta Scientiarum Naturalium University Nankaiensis,2001,34(2):67-70.
Authors:HU Beilai  LI Zhiguo  ZHENG Gang  ZHU Xiaoming
Institution:HU Beilai 1,LI Zhiguo 2,ZHENG Gang 1,ZHU Xiaoming 1
Abstract:ADALine based model to solve Black's equation is proposed and the Back Propagation (BP) models is adopted to predict median time to failure of the failure distribution. Additional variables such as line width that can not be reflected in the Black's equation are used in this BP model. Results demonstrate that the neural network is one of the powerful tools for study on the properties of electromigration in metal alloys.
Keywords:electromigration  median time to failure  Black's equation  neural networks  BP model
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号