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| 氮离子轰击改善胶体石墨薄膜平面场发射特性的研究 | |
| 作者单位： | 北京大学信息科学技术学院电子学系 |
| 摘 要： | 研究了氮离子(N )轰击对石墨薄膜场发射特性的影响。片层石墨被N 轰击成较整齐排列的锥尖阵列,尖端密度~108cm-2。XPS谱证实有许多N原子注入薄膜,膜内存在大量sp2杂化轨道键。场发射测试表明,经过N 轰击,整个薄膜在场发射的均匀一致性方面有较明显的改善,场发射电流密度从0·3增大到1·65mA/cm2。 |
| 关 键 词： | 氮离子(N ) 溅射轰击 石墨 场发射阵列 |
Improving the Field Emission Properties of a Graphite Paste Film by Nitrogen Ion Bombardment |
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| Authors: | WANG Weiwei SUN Hui YU Ligang ZHANG Gengmin |
| Institution: | WANG Weiwei SUN Hui YU Ligang ZHANG Gengmin~ 1) |
| Abstract: | |
| Keywords: | N-ion bombardment graphite field emission array |
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