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| 镍酸镧薄膜与硅基底的界面分析 | |
| 引用本文： | 朱永法,王海,姚文清.镍酸镧薄膜与硅基底的界面分析[J].广西师范大学学报(自然科学版),2003,21(Z4):198-199. |
| 作者姓名： | 朱永法 王海 姚文清 |
| 作者单位： | 清华大学,化学系,北京,100084 |
| 摘 要： | LaNiO3是一种钙钛矿型的化合物,晶格参数0.384 nm,与类似PbTiO3,Pb(ZrTi)O3和BaTiO3的铁电薄膜匹配的很好.其在300 K时的电阻大约是10-5Ωm,具有类金属特性、室温电阻率低的特点,随温度变化电阻率显示了良好的金属行为,是一种良好的铁电薄膜的电极材料及气敏材料.但对于薄膜材料的界面化学状态,由于研究方法的限制,目前研究得还比较少. |
INTERFACE ANALYSIS BETWEEN LaNiO3 FILM AND Si SUBSTRATE |
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