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4H-SiC肖特基势垒二极管温度特性研究
引用本文:胡林辉,谢家纯,王丽玉,徐军,易波.4H-SiC肖特基势垒二极管温度特性研究[J].中国科学技术大学学报,2003,33(6):688-691.
作者姓名:胡林辉  谢家纯  王丽玉  徐军  易波
作者单位:中国科学技术大学物理系,安徽,合肥,230026
基金项目:国家自然科学基金资助项目 (5 0 1 32 0 4 0 ),中科院创新项目 (KJCX2 -SW - 0 4 )
摘    要:采用平面工艺,用高真空电子束分别蒸发金属Ni、Ti做肖特基接触,采用多层金属Ni、Ti、Ag合金做欧姆接触,制作出Ni/4H—SiC、Ti/4H—SiC肖特基势垒二极管(SBD).研究了在-100~500℃之间器件正向直流压降与温度变化的关系.实验表明:当通过肖特基势垒二极管的正向电流恒定时,器件正向直流压降随温度变化具有线性关系,斜率约为1.8mV/℃,由此,提出了以4H—SiC肖特基势垒二极管为基础的高温温度传感器模型.

关 键 词:碳化硅  肖特基  二极管  温度
文章编号:0253-2778(2003)06-0688-04
修稿时间:2003年3月25日

Temperature Characteristics of 4H-SiC Schottky Barrier Diodes
HU Lin Hui,XIE Jia Chun,WANG Li YU,XU Jun,YI Bo.Temperature Characteristics of 4H-SiC Schottky Barrier Diodes[J].Journal of University of Science and Technology of China,2003,33(6):688-691.
Authors:HU Lin Hui  XIE Jia Chun  WANG Li YU  XU Jun  YI Bo
Abstract:
Keywords:SiC  Schottky Barrier  Diode  Temperature
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