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| （3S,4S）—1—苄基—3,4—二羟基吡咯的合成表征和电化学行为 | |
| 作者姓名： | 童叶翔 崔建国 |
| 作者单位： | 中山大学化学与化学工程学院 |
| 摘 要： | 合成了手性（３Ｓ，４Ｓ）－１－苄基－３，４－二羟基吡咯（１），通过元素分析、红外光谱、核磁共振光谱和旋光测定对其进行了表征，并通过循环伏安法研究其氧化还原性质．结果表明１的比旋光度为［α］２０Ｄ＝＋３０．４（ｃ＝４．３ｍｏｌ／Ｌ，甲醇），在ＤＭＦ中可电氧化为１－苄基－３，４－二羰基吡咯． |
| 关 键 词： | （3S，4S）－1－苄基－3.4－二羟基吡咯，旋光性，循环伏安法 |
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