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深亚微米工艺CMOS Gilbert混频器噪声分析
引用本文:唐守龙,吴建辉,罗岚. 深亚微米工艺CMOS Gilbert混频器噪声分析[J]. 应用科学学报, 2006, 24(4): 372-376
作者姓名:唐守龙  吴建辉  罗岚
作者单位:东南大学,国家专用集成电路系统工程技术研究中心,江苏,南京,210096
摘    要:深入研究了深亚微米工艺下的CMOS Gilbert混频器噪声产生机理,提出了深亚微米工艺下的混频器噪声系数性能解析模型.基于0.25μm标准CMOS工艺的Gilbert混频器仿真结果表明,该预测的噪声系数理论值与仿真结果相差最大为1.5 dB,相对误差最大为12.5%.

关 键 词:CMOS射频集成电路  混频器  深亚微米工艺  噪声
文章编号:0255-8297(2006)04-0372-05
收稿时间:2005-03-30
修稿时间:2005-03-302005-05-23

Noise in Deep Submicron CMOS Gilbert Mixers
TANG Shou-long,WU Jian-hui,LUO Lan. Noise in Deep Submicron CMOS Gilbert Mixers[J]. Journal of Applied Sciences, 2006, 24(4): 372-376
Authors:TANG Shou-long  WU Jian-hui  LUO Lan
Affiliation:National ASIC System Engineering Research Center, Southeast University, Nanjing 210096, China
Abstract:
Keywords:CMOS RF IC  mixer  deep submicron technology  noise
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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