| 半导体芯片截面的扫描电镜分析 |
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| 引用本文： | 周文英,徐元华.半导体芯片截面的扫描电镜分析[J].复旦学报(自然科学版),1988(3). |
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| 作者姓名： | 周文英 徐元华 |
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| 作者单位： | 复旦大学电子工程系，复旦大学电子工程系 1986届硕士研究生 |
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| 摘 要： | 用扫描电子显微镜(SEM)对集成电路芯片截面进行了分析,介绍了芯片截面的制备方法、结构显示和SEM观察技术,并对集成电路中一些重要的制造工艺进行了分析,得到了用其他方法较难得到的重要的器件几何参数。
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| 关 键 词： | 半导体芯片 工艺分析技术 扫描电子显微镜 结构显示。 |
SEM ANALYSIS OF CROSS SECTIONS FOR SEMICONDUCTOR CHIP |
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| Zhou Wenying,Xu Yuanhua,.SEM ANALYSIS OF CROSS SECTIONS FOR SEMICONDUCTOR CHIP[J].Journal of Fudan University(Natural Science),1988(3). |
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| Authors: | Zhou Wenying Xu Yuanhua |
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| Institution: | Department of Electronic Engineering |
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| Abstract: | The IC chip cross sectional SEM analysis technique is described. It containscross-sectional method of IC chip, delineation and SEM observation technique. Someimportant processes in IC manufacturing are analysed, and very important processdata of device are obtained through this analysis method. |
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| Keywords: | semiconductor chip processing analysis scanning electron microscopy structure delineation |
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