| 退火温度对Nb掺杂SrTiO3薄膜光电化学性能的影响 |
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| 引用本文： | 王改田 涂江平 王淑芬 王秀丽. 退火温度对Nb掺杂SrTiO3薄膜光电化学性能的影响[J]. 中山大学学报(自然科学版), 2007, 46(B06): 15-16 |
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| 作者姓名： | 王改田 涂江平 王淑芬 王秀丽 |
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| 作者单位： | 浙江大学材料科学与工程系,浙江杭州310027 |
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| 摘 要： | 研究了Nb掺杂SrTiO3薄膜的光电化学性能及其对储氢合金薄膜的光充电性能。采用射频磁控溅射将SrTiO3薄膜沉积在镍片基体上，在300-600℃退火处理后，采用直流磁控溅射将LaNi3.9Al1．3储氢合金薄膜沉积在镍片基体的背面构成SrTiO3／Ni／储氢合金电极。随着Nb掺杂SrTiO3薄膜热处理温度的升高，阳极光电流和光充电性能先增大后减小。
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| 关 键 词： | 钛酸锶 储氢合金 光充电 退火温度 |
| 文章编号： | 0529-6579（2007）S1-0015-02 |
| 修稿时间： | 2007-01-10 |
Influence of Annealing Temperature on Photoelectrochemical Performance of Nb-doped SrTiO3 Film |
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| WANG Gai-tian, TU Jing-ping, WANG Shu-fen, WANG Xiu-li. Influence of Annealing Temperature on Photoelectrochemical Performance of Nb-doped SrTiO3 Film[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 2007, 46(B06): 15-16 |
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| Authors: | WANG Gai-tian TU Jing-ping WANG Shu-fen WANG Xiu-li |
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| Affiliation: | Department of Materials Science and Engineering, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Strontium titanate hydrogen storage alloy photoelectrochemical performance annealing temperature |
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