| 退火温度对Nb掺杂SrTiO3薄膜光电化学性能的影响 |
| |
| 引用本文： | 王改田,涂江平,王淑芬,王秀丽.退火温度对Nb掺杂SrTiO3薄膜光电化学性能的影响[J].中山大学学报(自然科学版),2007,46(B06):15-16. |
| |
| 作者姓名： | 王改田 涂江平 王淑芬 王秀丽 |
| |
| 作者单位： | 浙江大学材料科学与工程系,浙江杭州310027 |
| |
| 摘 要： | 研究了Nb掺杂SrTiO3薄膜的光电化学性能及其对储氢合金薄膜的光充电性能。采用射频磁控溅射将SrTiO3薄膜沉积在镍片基体上，在300-600℃退火处理后，采用直流磁控溅射将LaNi3.9Al1．3储氢合金薄膜沉积在镍片基体的背面构成SrTiO3／Ni／储氢合金电极。随着Nb掺杂SrTiO3薄膜热处理温度的升高，阳极光电流和光充电性能先增大后减小。
|
| 关 键 词： | 钛酸锶 储氢合金 光充电 退火温度 |
| 文章编号： | 0529-6579（2007）S1-0015-02 |
| 修稿时间： | 2007-01-10 |
Influence of Annealing Temperature on Photoelectrochemical Performance of Nb-doped SrTiO3 Film |
| |
| WANG Gai-tian, TU Jing-ping, WANG Shu-fen, WANG Xiu-li.Influence of Annealing Temperature on Photoelectrochemical Performance of Nb-doped SrTiO3 Film[J].Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni,2007,46(B06):15-16. |
| |
| Authors: | WANG Gai-tian TU Jing-ping WANG Shu-fen WANG Xiu-li |
| |
| Institution: | Department of Materials Science and Engineering, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Strontium titanate hydrogen storage alloy photoelectrochemical performance annealing temperature |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ |
