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荧光分光光度法测定-γ(2,3环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷修饰的纳米二氧化硅表面的环氧基团
引用本文:常志显,李德亮.荧光分光光度法测定-γ(2,3环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷修饰的纳米二氧化硅表面的环氧基团[J].平顶山学院学报,2011,26(2):43-46.
作者姓名:常志显  李德亮
作者单位:河南大学环境与分析科学研究所,河南开封,475004
基金项目:河南大学自然科学基金重点项目(XK06ZD003)
摘    要:建立了荧光分光光度法测定γ-(2,3环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷修饰的纳米二氧化硅(GPTMS-SiO2)表面环氧基团含量的方法.讨论了铵盐的种类和浓度、pH值、乙酰丙酮的浓度、温度和时间对荧光强度的影响及荧光产物的稳定性.结果表明:当环氧基官能团的浓度在0.002 0~0.029 1 mmol.L-1范围内,荧光强度与其浓度呈良好的线性关系,r=0.997 9.该方法重现性好、准确度较高,可用于GPTMS-SiO2表面环氧基团含量的测定.

关 键 词:荧光分光光度法  -γ(2  3环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷  纳米二氧化硅  环氧基团
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