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| a—Si的气相和离子注入硼掺杂及其通氢退火效应 | |
| 引用本文： | 张德恒,陆大荣.a—Si的气相和离子注入硼掺杂及其通氢退火效应[J].山东大学学报(理学版),1982(1). |
| 作者姓名： | 张德恒 陆大荣 |
| 作者单位： | 山东大学物理系 为1979级研究生(张德恒)，山东大学物理系 现留校(陆大荣) |
| 摘 要： | 本文报道了射频溅射制备的α—Si:F膜对硼的气相掺杂与气体流速量、靶的类型等因素的关系;离子注入对①已掺入硼的α—Si:F膜②未掺杂的α—Si:F膜③在纯Ar气氛中溅射的α—Si膜④辉光放电制备的α—Si:H膜电阻率的影响;报道了退火对掺杂膜电阻率的影响;对各种现象的物理机制作了简单的分析。 |
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