| LaNiO_3缓冲层对Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜微结构和介电性能的影响 |
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| 引用本文： | 石金川,张丛春,侯捷,杨春生,饶瑞. LaNiO_3缓冲层对Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜微结构和介电性能的影响[J]. 上海交通大学学报, 2009, 43(3) |
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| 作者姓名： | 石金川 张丛春 侯捷 杨春生 饶瑞 |
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| 作者单位： | 上海交通大学,微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200240 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，应用材料基金，国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 利用射频磁控溅射法,在Pt/Ti/SiO2/Si和LaNiO2/Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜.采用X-ray衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM),研究了两种衬底上BST薄膜样品的结晶性和表面形貌.结果表明:BST薄膜材料均为钙钛矿相,直接生长在硅衬底上的BST薄膜无择优取向,晶粒尺寸为20～30 nm,而LaNiO2缓冲层上生长的BST薄膜则为(100)择优取向,晶粒尺寸约为150～200 nm.室温下测试了薄膜的介电性能.研究结果表明,LNO缓冲层显著提高了BST薄膜的介电常数和介电可调率.
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| 关 键 词： | 钛酸锶钡薄膜 镍酸镧缓冲层 射频磁控溅射 介电性能 |
The Effects of LaNiO3 Buffer Layer on the Microstructure and Dielectric Properties of Ba0.5 Sr0.5TiO3 Thin Films |
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| SHI Jin-chuan,ZHANG Cong-chun,HOU Jie,YANG Chun-sheng,RAO Rui. The Effects of LaNiO3 Buffer Layer on the Microstructure and Dielectric Properties of Ba0.5 Sr0.5TiO3 Thin Films[J]. Journal of Shanghai Jiaotong University, 2009, 43(3) |
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| Authors: | SHI Jin-chuan ZHANG Cong-chun HOU Jie YANG Chun-sheng RAO Rui |
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