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III-V稀磁半导体研究进展
引用本文:危书义,王天兴,阎玉丽. III-V稀磁半导体研究进展[J]. 河南师范大学学报(自然科学版), 2003, 31(2): 50-53
作者姓名:危书义  王天兴  阎玉丽
作者单位:河南师范大学物理与信息工程学院,河南,新乡,453002
基金项目:河南省自然科学基金资助项目 (编号 :0 1110 5 10 0 0 )
摘    要:低温分子束外延技术的应用,使高浓度掺杂的Ⅲ-Ⅴ族稀磁半导体得以成功制备,与现代半导体器件兼容.本概要地回顾了磁性半导体的发展历史,介绍了目前的实验,应用及理论进展.

关 键 词:稀磁半导体 Ⅲ-Ⅴ族半导体 低温分子束外延 自旋电子学 铁磁性 室温铁磁
文章编号:1000-2367(2003)02-0050-04
修稿时间:2002-11-27

III-V Diluted Magnetic Semiconductor
WEI Shu-yi,WANG Tian-xing,YAN Yu-li. III-V Diluted Magnetic Semiconductor[J]. Journal of Henan Normal University(Natural Science), 2003, 31(2): 50-53
Authors:WEI Shu-yi  WANG Tian-xing  YAN Yu-li
Abstract:
Keywords:LT-MBE  spintronics  DMS  RM-ferromagnetism
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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