氧氩比对ZnO薄膜微观结构及光电特性的影响 |
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引用本文: | 张猛,付宏远,孙艳艳,赵洋,王辉.氧氩比对ZnO薄膜微观结构及光电特性的影响[J].河南科技大学学报(自然科学版),2019(6). |
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作者姓名: | 张猛 付宏远 孙艳艳 赵洋 王辉 |
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作者单位: | 河南科技大学物理工程学院;河南科技大学河南省光电储能材料与应用重点实验室 |
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摘 要: | 采用JGP300型超高真空磁控溅射系统,在蓝宝石(Al_2O_3)、p-Si和氧化铟锡(ITO)导电玻璃衬底上制备了ZnO薄膜。使用X射线衍射仪(XRD)、紫外分光光度计(UV)、原子力显微镜(AFM)分析了氧氩比对ZnO薄膜晶体结构、光学特性和表面形貌的影响。测试结果表明:ZnO薄膜均为单一六方纤锌矿结构,且均表现出c轴择优取向。随着氧氩比的减小,ZnO(002)衍射峰强度增大,衍射峰半高宽(FWHM)减小。氧氩比为1∶4条件下制备的ZnO薄膜结晶质量较好。随着氧氩比的增大,ZnO薄膜表面粗糙度先增大后减小。在可见光范围内(波长400~700 nm),氧氩比为3∶2条件下制备的ZnO薄膜,平均透过率超过70%。
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