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铁磁/绝缘层/有机半导体/铁磁多层膜隧道结的隧穿磁电阻的温度和偏压特性研究
引用本文:张佩佩,徐明,陈尚荣,吴艳南,周勋,刘杰. 铁磁/绝缘层/有机半导体/铁磁多层膜隧道结的隧穿磁电阻的温度和偏压特性研究[J]. 中国科学:物理学 力学 天文学, 2010, 40(4): 433-439
作者姓名:张佩佩  徐明  陈尚荣  吴艳南  周勋  刘杰
作者单位:① 四川师范大学物理与电子工程学院&固体物理研究所低维结构物理实验室, 成都 610068; ② 贵州师范大学物理与电子科学学院, 贵阳 550001
基金项目:贵州省科技厅应用基础研究项目(编号: 黔科通J合[2006]2004)和四川省教育厅自然科学重点项目资助(编号: 07ZA095)
摘    要:采用Slonczewski的近自由电子模型, 利用转移矩阵的方法, 研究了铁磁/绝缘层/有机半导体/铁磁隧道结的自旋极化载流子隧穿的温度和偏压特性. 计算了T=4 K和T=300 K时, 隧穿磁电阻(Tunneling Magnetic Resistance, TMR)随偏压的变化关系, 同时还研究了零温时在有限偏压下隧穿磁电阻TMR与绝缘层厚度、有机半导体层厚度以及铁磁/有机半导体界面势垒U的变化关系. 我们的计算结果较好地解释了有关的实验 结论.

关 键 词:多层膜  有机半导体  绝缘体  铁磁层  隧穿磁电阻
收稿时间:2009-12-09
修稿时间:2010-01-22

The temperature and voltage dependence of the tunneling magnetoresistance in ferromagnet /insulator /organic semiconductor /ferromagnet magnetic tunneling junction
ZHANG PeiPei,XU Ming,CHEN ShangRong,WU YanNan,ZHOU Xun, , LIU Jie Institute of Solid State Physics , School of Physics , Electronic Engineering,Sichuan Normal University,Chengdu ,China, School of Physical , Electronic Science,Guizhou Normal University,Guiyang. The temperature and voltage dependence of the tunneling magnetoresistance in ferromagnet /insulator /organic semiconductor /ferromagnet magnetic tunneling junction[J]. SCIENCE CHINA Physics, Mechanics & Astronomy, 2010, 40(4): 433-439
Authors:ZHANG PeiPei  XU Ming  CHEN ShangRong  WU YanNan  ZHOU Xun   & LIU Jie Institute of Solid State Physics & School of Physics    Electronic Engineering  Sichuan Normal University  Chengdu   China   School of Physical    Electronic Science  Guizhou Normal University  Guiyang
Affiliation:ZHANG PeiPei1,XU Ming1,CHEN ShangRong1,WU YanNan1,ZHOU Xun1,2 & LIU Jie1 1 Institute of Solid State Physics & School of Physics , Electronic Engineering,Sichuan Normal University,Chengdu 610068,China,2 School of Physical , Electronic Science,Guizhou Normal University,Guiyang 550001
Abstract:Based on Slonczewski's free-electron approximation and transfer matrix method,the temperature and/or bias-voltage dependence of the spin-polarized tunneling electrons in ferromagnet/insulator/organic semiconductor/ferromagnet magnetic tunneling junction are investigated.The variation of tunneling magnetoresistance (TMR) with voltage are calculated at T=4 K and T=300 K.Furthermore,the dependence of TMR on the thickness of the insulator layer or organic semiconductor layer,and OSM/FM interface potential barri...
Keywords:multilayer films  organic semiconductor  insulator  ferromagnetic layer  tunneling magnetic resistance  
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