| pH值对电沉积法制备Ni-P非晶态合金镀层热稳定性的影响 |
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| 引用本文： | 张云黔,史鸿运,邓洁,董俊,王健.pH值对电沉积法制备Ni-P非晶态合金镀层热稳定性的影响[J].贵州大学学报(自然科学版),2001,18(3):186-189. |
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| 作者姓名： | 张云黔 史鸿运 邓洁 董俊 王健 |
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| 作者单位： | 贵州大学化学系, |
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| 摘 要： | 本文研究了用不同pH值的镀液进行电学沉积时制备的Ni－P非晶态镀层，其镀层中磷的含量随pH增大的增大而减小，用差示扫描量热法（DSC）对各非晶态Ni－P镀层进行动力学分析，其晶化活化能数据表明，pH=6.50条件下制备的镀层较为稳定，它们的晶化机理可能为Avrami-Erofeev方程的核生成和核生长（n＝1），动力学方程为dx/dt=Ae^-E/RT(1-α）。
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| 关 键 词： | 非晶态合金 电沉积 晶化动力学 热稳定性 DSC pH值 镍磷合金 |
| 文章编号： | 1000-5269(2001)03-0186-04 |
| 修稿时间： | 2001年5月10日 |
Effect of pH Value on Thermal Stability of Amorphous Ni- P Alloy Coating Prepared by Electrodeposition |
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| Zhang yunqian,Shi hongyun,Den Jie,Dong jun,Wang Jian.Effect of pH Value on Thermal Stability of Amorphous Ni- P Alloy Coating Prepared by Electrodeposition[J].Journal of Guizhou University(Natural Science),2001,18(3):186-189. |
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| Authors: | Zhang yunqian Shi hongyun Den Jie Dong jun Wang Jian |
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| Keywords: | amorphous Ni-P alloy electrodeposition crystallization kinetics thermal stability DSC |
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