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TiAlN保护膜的制备及结构研究
作者姓名:
胡作启 李佐宜
摘 要:
用反应磁控溅射方法制备了TiAlN薄膜,结构分析表明,当Ti的含量小于0.25时,TiAlN薄膜是Al基氮化物的闪锌矿结构,但晶格常数随Ti原子含量的增加而增大,X射线光电子能谱分析表明,TiAlN薄膜有与AlN和TiN不同的电子结构特征。
关 键 词:
薄膜 结构 X射线 光电子能谱 金属氮化物
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