| 用激光扫描方法改善超导薄膜的厚度均匀性 |
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| 引用本文： | 宋文栋.用激光扫描方法改善超导薄膜的厚度均匀性[J].科学通报,1994,39(5):408-408. |
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| 作者姓名： | 宋文栋 |
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| 作者单位： | 华中理工大学激光技术国家重点实验室 武汉430074
(宋文栋，安承武，陆冬生，范永昌)，华中理工大学激光技术国家重点实验室 武汉430074(李再光) |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 随着高T_c超导薄膜的成功制备,人们开始着眼于它的实际应用.目前,超导薄膜最有可能得到应用的一个重要方面是微波器件.但微波器件通常要求超导薄膜的厚度均匀面积大于几个平方厘米.因而制备膜厚均匀的大面积高T_c超导薄膜是当前的一个重要的研究课题.至今为止,人们采用了各种镀膜技术来制备大面积超导薄膜,如激光消融技术磁控溅射、化学气相淀积等.文献1,2]指出,如果不采取适当的措施,激光淀积超导薄膜的厚度分布是极不均匀的,这是因为激光在超导靶上消融的粒子束高度集中在激光消融点靶面法线方向上一个狭窄的区域内.但可通过基片扫描或旋转来改善激光波积的超导薄膜的厚度
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| 关 键 词： | 激光扫描 薄膜 超导体 厚度均匀性 |
| 收稿时间： | 1993-01-28 |
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