金属硅化物富勒烯的合成与质谱检测证据 |
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作者姓名: | 陈贻炽 郭亮 朱立群 |
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作者单位: | 北京航空航天大学材料科学与工程学院,北京,100083 |
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基金项目: | 致谢 实验工作得到了中国科学院化学研究所(北京)分子纳米结构与纳米技术院重点实验室王春儒研究员的大力支持和指导,在此深表感谢. |
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摘 要: | 采用直流电弧放电法进行内嵌金属富勒烯的研究, 探讨是否存在金属硅化物的富勒烯和硅的富勒烯. 通过高效液相色谱法分离产物成分, 并且通过飞行质谱法进一步分析产物, 结果发现, 存在SiC69, YSi2C64, YSi2C78和Y3Si2C78这类结构的富勒烯的证据, 并存在类似(Y2C2)@C82结构的Y2Si2C90富勒烯的证据.
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关 键 词: | 富勒烯 金属富勒烯 金属硅化物 飞行质谱 硅 |
收稿时间: | 2006-05-20 |
修稿时间: | 2006-05-202006-07-13 |
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