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微接触压印法制备ZnO纳米线二维光子晶体
作者单位:;1.陕西理工大学电气工程学院;2.陕西理工大学陕西省工业自动化重点实验室;3.陕西理工大学物理与电信工程学院
摘    要:采用基于微接触压印的一种新工艺制备了ZnO纳米线二维光子晶体,工艺包括两个步骤:第一,利用Zn(AOc)_2溶胶作为墨水和PDMS作为印章,通过微接触压印技术在ITO衬底上制备图形化的ZnO种子层;第二,采用80℃的低温水热法在图形化的ZnO种子层上选择性的生长ZnO纳米线,获得ZnO纳米线二维光子晶体。测试结果表明:通过优化后的工艺,实现了微结构完整的图形化ZnO种子层;通过短时间的水浴生长实现ZnO纳米线二维光子晶体。由于光子晶体的多重散射效应,透过ZnO纳米线光子晶体的光波呈周期性震动的光谱曲线与带状色散条纹。

关 键 词:微接触压印  ZnO纳米线  光子晶体  化学浴沉积

Preparation of ZnO namowires 2D photonic crystal by microcontact printing
Abstract:
Keywords:
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