| 磁控溅射靶磁场的分布 |
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| 引用本文： | 胡作启,李佐宜,刘卫忠,熊锐. 磁控溅射靶磁场的分布[J]. 华中科技大学学报(自然科学版), 1997, 0(11) |
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| 作者姓名： | 胡作启 李佐宜 刘卫忠 熊锐 |
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| 作者单位： | 华中理工大学固体电子学系 |
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| 基金项目： | 国防科工委八五预研项目 |
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| 摘 要： | 用麦克斯韦方程，推导了射频磁控溅射靶磁场的数学表达式，并研究了靶磁场的三维分布规律，得到了磁控靶的磁场在中心圆环有较强的水平分量、边缘有较强的垂直分量的结果，计算结果与实验结果相符．
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| 关 键 词： | 磁控溅射；磁场计算；三维分布 |
Distribution of Target Magnetic Field in the Magnetron Sputtering System |
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| Hu Zuoqi Dept. of Solid State Electronics,HUST,Wuhan ,China. Li Zuoyi Liu Weizhong Xiong Rui. Distribution of Target Magnetic Field in the Magnetron Sputtering System[J]. JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE, 1997, 0(11) |
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| Authors: | Hu Zuoqi Dept. of Solid State Electronics HUST Wuhan China. Li Zuoyi Liu Weizhong Xiong Rui |
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| Affiliation: | Hu Zuoqi Dept. of Solid State Electronics,HUST,Wuhan 430074,China. Li Zuoyi Liu Weizhong Xiong Rui |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering magnetic field calculation 3 D distribution |
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