|
|||||
|
|
| 高温氨气氛下镍纳米催化剂的结构研究 | |
| 引用本文： | 赵勇,程国安,郑瑞廷,刘华平,梁昌林,张萌. 高温氨气氛下镍纳米催化剂的结构研究[J]. 北京师范大学学报(自然科学版), 2005, 41(6): 586-590 |
| 作者姓名： | 赵勇 程国安 郑瑞廷 刘华平 梁昌林 张萌 |
| 作者单位： | 1. 北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京师范大学材料科学与工程系,北京市辐射中心,100875,北京;南昌大学物理学系,330047,南昌 2. 北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京师范大学材料科学与工程系,北京市辐射中心,100875,北京 3. 南昌大学材料科学与工程系,330047,南昌 |
| 摘 要： | 研究了高温氨处理过程对SiO2/Si基底表面镍纳米薄膜显微结构变化的影响,探讨了镍纳米薄膜显微结构随氨气介入时间、薄膜厚度以及氨气刻蚀温度等参数变化的规律,并对氨在其变化过程中的作用机制进行了初步分析.结果表明:SiO2/Si基底表面镍纳米薄膜转变成高密度、小直径、均匀镍纳米颗粒的关键是恰当的氨气介入时间和刻蚀温度;硅表面的二氧化硅层有效地隔离了镍原子和硅原子的扩散,这种隔离层对镍纳米薄膜的显微结构有很大的影响,起到了阻碍硅和镍发生化合反应的作用,维持了镍在基底表面物质的量的恒定. |
| 关 键 词： | 纳米薄膜 氨刻蚀 显微结构 |
| 收稿时间： | 2005-05-16 |
| 修稿时间： | 2005-05-16 |
INFLUENCE OF AMMONIA ON THE NANOSTRUCTURES OF Ni NANO-FILMS |
|
| Zhao Yong,Cheng Guoan,Zheng Ruiting,Liu Huaping,Liang Changlin,Zhang Meng. INFLUENCE OF AMMONIA ON THE NANOSTRUCTURES OF Ni NANO-FILMS[J]. Journal of Beijing Normal University(Natural Science), 2005, 41(6): 586-590 | |
| Authors: | Zhao Yong Cheng Guoan Zheng Ruiting Liu Huaping Liang Changlin Zhang Meng |
| Abstract: | The influence of ammonia treatment on the nanostructures of nickel catalyst films is studied.The nickel films are prepared by metal vapor vacuum arc(MEVVA) plasma deposition system on SiO_2/Si or Si substrate.It is found that the nanostructures of nickel particles are depended on the factors such as the processing time of ammonia,film thickness and the processing temperature.The appropriate processing time of ammonia and the processing temperature are the key factors to obtain highly dense,small and uniform Ni nano-particles.SiO_(2) layer has the effects of preventing the chemical combination between nickel and silicon during the processing period.The influence of ammonia on Ni nano-films is briefly discussed. |
| Keywords: | nickel nano-film ammonia etching nanostructure |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |