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fcc结构晶体层错的自身能及其交互作用能的嵌入原子法计算
引用本文:何刚,戎咏华,徐祖耀.fcc结构晶体层错的自身能及其交互作用能的嵌入原子法计算[J].中国科学(E辑),2000,30(1):1-8.
作者姓名:何刚  戎咏华  徐祖耀
作者单位:上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200030
基金项目:国家自然科学基金!资助项目 (批准号 :59671 0 2 3)
摘    要:采用嵌入原子法计算了不同价电子Cu,Ag,Au,Ni和Al5种金属的层错能,结果表明,层错能主要受金属键能和点阵常数的影响,因而单价fcc结构的不同金属不应具有相同的层错能,这与Auree的预测不同,间隔为一层(111)面的两个层错的交互作用能其计算值约为层错自身能的1/40 ̄1/250,当层错间隔两上或以上的密排层面时,其交互作用能为零,不考虑孪晶形成后的各松弛,孪晶能正好为单个内层错能的一半

关 键 词:层错能  EAM  交互作用能  晶体缺陷  fcc结构晶体
修稿时间:1999-06-09
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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