对向靶型高速低温溅射法及氮化钛薄膜的溅射研究

为了实现高速、低温、无成份偏析的溅射法,将两个同样尺寸的靶相互平行放置,并在靶面垂直方向上加入外磁场组成一种新型的溅射装置。通过对这种结构的溅射装置的工作原理和实际性质研究表明,从靶面放出来的电子可以高效率地使溅射腔内的气氛电离,并且在磁场作用之下,形成高密度的等离子体。另外还可以完全控制高能电子对基板的轰击,从而实现了高速、低温、无成份偏析的溅射。利用这种装置还对氮化钛薄膜物性同成膜的各种实验条件,如溅射功率、溅射气氛、基板高频偏压等进行了系统研究。除获得了维氏硬度3500～4000左右的优质氮化钛薄膜以外,还得到了薄膜硬度可以通过反射率同光波长的依存关系进行予测的有益结论。