| 金属W在T=1000 K以下时场发射电流密度的数值计算 |
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| 引用本文： | 胥良. 金属W在T=1000 K以下时场发射电流密度的数值计算[J]. 曲靖师范学院学报, 2001, 20(3): 34-35,57 |
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| 作者姓名： | 胥良 |
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| 作者单位： | 昆明师范高等专科学校学报编辑部,云南,昆明,650031 |
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| 摘 要： | 对热场发射公式在1 000K以下温度进行了数值计算,发现计算结果与一些文献推导的、用于计算温度在1000 K以下的近似公式计算结果出现偏差,因此不能用简单的近似公式来计算来发射电流密度,而必须用数值计算发射电流密,计算结果对实际工作具有一定的指导意义.
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| 关 键 词： | 金属W 热场发射 数值计算 近似公式 结果对比 |
| 文章编号： | 1009-8879(2001)03-0034-02 |
| 修稿时间： | 2001-04-02 |
Numerical Calculation of Field Emission Electric Current Density for Metal W below 1 000 K |
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| XI Liang. Numerical Calculation of Field Emission Electric Current Density for Metal W below 1 000 K[J]. Journal of Qujing Normal College, 2001, 20(3): 34-35,57 |
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| Authors: | XI Liang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | |
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