980nm应变量子阱激光器外延层工艺参数的优化设计 |
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引用本文: | 张莹,宋爱民,王培界.980nm应变量子阱激光器外延层工艺参数的优化设计[J].重庆邮电学院学报(自然科学版),2012(2). |
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作者姓名: | 张莹 宋爱民 王培界 |
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作者单位: | 重庆邮电大学光电工程学院;重庆教育学院图书馆;重庆光电技术研究所; |
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摘 要: | 对980 nm应变量子阱激光器的外延层工艺参数进行优化设计。通过理论计算和软件模拟相结合的方法,优化了量子阱的结构,研究了波导层、包层中的Al组分对量子阱激光器效率的影响。根据优化结果,采用金属有机化合物化学气相淀积(metal organic chemical vapor deposition,MOCVD)技术外延生长了激光器的材料,并进行测试。测试结果表明,在室温下,当工作电流为1 A时,阈值电流为150 mA,斜率效率为0.48 W/A(采用150μm×500μm,未镀膜器件),输出功率为400 mW。
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关 键 词: | 单量子阱 压应变 Al组分 金属有机化合物化学气相淀积(MOCVD) 转换效率 |
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