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Ta种子层厚度及溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜各向异性磁电阻和矫顽力的影响
引用本文:张辉,滕蛟,马纪东,于广华,胡强. Ta种子层厚度及溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜各向异性磁电阻和矫顽力的影响[J]. 北京科技大学学报, 2005, 27(4): 458-461
作者姓名:张辉  滕蛟  马纪东  于广华  胡强
作者单位:1. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;中国科学院物理研究所,北京,100080
2. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083
基金项目:国家自然科学基金 , 高等学校博士学科点专项科研项目 , 教育部科学技术研究重点项目
摘    要:研究了Ta种子层的厚度、溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜各向异性磁电阻值(△p/p)、矫顽力和织构的影响.研究表明,适当的Ta层厚度和较高的Ta层溅射速率对提高Ta/Ni65Co35双层膜的△p/p是有效的.Ta种子层的使用增大了Ta/Ni65Co35双层膜的矫顽力而其溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜矫顽力的影响很小.

关 键 词:Ta种子层  溅射速率  各相异性磁电阻  矫顽力  (111)织构  种子层  层厚度  溅射速率  双层膜  各向异性磁电阻  矫顽力  影响  coercivity  anisotropic magnetoresistance  seed layer  deposition rate  thickness  使用  电阻值  研究
收稿时间:2004-05-10
修稿时间:2005-09-10

Effects of the thickness and deposition rate of Ta seed layer on the anisotropic magnetoresistance and coercivity of Ta/Ni65Co35 bilayers
ZHANG Hui,TENG Jiao,MA Jidong,YU Guanghua,HU Qiang. Effects of the thickness and deposition rate of Ta seed layer on the anisotropic magnetoresistance and coercivity of Ta/Ni65Co35 bilayers[J]. Journal of University of Science and Technology Beijing, 2005, 27(4): 458-461
Authors:ZHANG Hui  TENG Jiao  MA Jidong  YU Guanghua  HU Qiang
Abstract:The effects of the thickness and deposition rate of Ta seed layer on the anisotropic magnetoresistance (AMR) and coercivity of Ta/Ni65Co35 bilayers were investigated. The results showed that Ap/p of Ta/Ni65Co35 bilayers could be improved at a certain thickness or higher deposition rate. The coercivity of Ta/Ni65Co35 films increased with the use of Ta seed layer. But the effect of the deposition rate on the coercivity of Ta/Ni65Co35 films was not significant.
Keywords:Ta seed layer  deposition rate  anisotropic magnetoresistance  coercivity  (111) texture
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