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| 高反射率Ag5In5Te47Sb33相变薄膜热致晶化的微观结构和光学性质的变化 | |
| 作者姓名： | 刘惠勇 姜复松 门丽秋 范正修 干福熹 |
| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 上海201800 |
| 摘 要： | 对磁控射频溅射法制备的Ag5In5Te47Sb33相变薄膜热致晶化的微观结构和光学性质的变化进行了研究 .沉积态薄膜为非晶态 ,其晶化温度为160℃.晶态薄膜中产生了立方晶态相AgInTe2 和AgSbTe2 及单质Sb ,220℃退火薄膜中AgSbTe2 相含量最大.晶态薄膜的反射率高于沉积态 ,并且220℃退火的晶态薄膜反射率最大.220℃退火薄膜为直径约30nm的球状AgSbTe2 相和短棒状Sb相. |
| 关 键 词： | 磁控溅射 Ag5In5Te47Sb33相变薄膜 CD-E系统 热致相变 光学性质 |
| 收稿时间： | 1997-11-28 |
| 修稿时间： | 1998-04-24 |
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