美开发出热蘸笔纳朱光刻技术

据美国物理学家组织网2011年11月7日报道,美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用,据此研制出的热蘸笔纳米光刻技术能在物质表面构造大小为20纳米的结构。