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| 一种新的湿法钝化多孔硅的方法 | |
| 作者姓名： | 黄燕华 陈松岩 蔡贝妮 |
| 作者单位： | 厦门大学物理学系，福建厦门361005 |
| 摘 要： | 采用硫代乙酰胺的HF酸水溶液作为氧化剂对初始多孔硅进行钝化处理，改善了多孔硅表面结构并提高了发光强度、同时研究了钝化电流．钝化温度和钝化时间等一系列因素对钝化多孔硅光致发光强度的影响、实验发现．在60℃恒温下．对样品通电流1mA／cm^2．进行10min的钝化处理可以获得最强的光致发光．发光强度比初始样品发光强度增强了一个数量级．另外．通过傅立叶红外吸收谱(FTIR)以及X射线光电子能谱(XPS)测试分析．探讨了钝化处理使得多孔硅发光强度提高的原因． |
| 关 键 词： | 多孔硅 X射线光电子能谱（XPS） 发光强度 湿法 钝化处理 硫代乙酰胺 红外吸收谱 表面结构 钝化时间 钝化温度 测试分析 光致发光 实验发现 氧化剂 水溶液 HF酸 傅立叶 数量级 强度比 电流 样品 |
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