| 钢化过程中低辐射玻璃SnO_x:F薄膜氧含量的变化及其影响 |
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| 引用本文： | 杨静凯,赵洪力,董立中,张福成.钢化过程中低辐射玻璃SnO_x:F薄膜氧含量的变化及其影响[J].燕山大学学报,2012,36(6):482-485,490. |
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| 作者姓名： | 杨静凯 赵洪力 董立中 张福成 |
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| 作者单位： | 1. 燕山大学材料科学与工程学院,河北秦皇岛,066004
2. 燕山大学材料科学与工程学院,河北秦皇岛066004 ;燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室,河北秦皇岛066004 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 采用有机金属化合物化学气相沉积法(MOCVD)在浮法玻璃上沉积了F掺杂的氧化锡薄膜,制备低辐射镀膜玻璃,并在高温电阻炉和钢化炉内分别进行热处理和钢化实验,对不同条件下的电学性能进行了研究。采用XPS和AES对薄膜中O]/Sn]平均含量的变化进行了分析。结果表明,在650℃之内,表面电阻没有发生明显改变,但此后快速上升至86.68Ω/□;薄膜O和Sn的含量不符合化学计量比,O]/Sn]比均小于1.20;随着热处理温度的提高和时间的延长,薄膜中O含量有所提高,与表面电阻的变化趋势接近。
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| 关 键 词： | 低辐射玻璃 氧化锡薄膜 钢化 表面电阻 光电子能谱 |
Variation and effects of oxygen content in SnOx: F films on Low-E glass in the tempering processing |
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| YANG Jing-kai
,
ZHAO Hong-li
,
DONG Li-zhong
,
ZHANG Fu-cheng.Variation and effects of oxygen content in SnOx: F films on Low-E glass in the tempering processing[J].Journal of Yanshan University,2012,36(6):482-485,490. |
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| Authors: | YANG Jing-kai ZHAO Hong-li DONG Li-zhong ZHANG Fu-cheng |
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| Institution: | 1,2(1.College of Materials Science and Engineering,Yanshan University,Qinhuangdao,Hebei 066004,China;2.State Key Laboratory of Metastable Materials Science and Technology,Yanshan University,Qinhuangdao,Hebei 066004,China) |
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