| CNX薄膜的PCVD制备及研究 |
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| 引用本文： | 彭军 陈光华. CNX薄膜的PCVD制备及研究[J]. 甘肃科学学报, 1996, 8(3): 14-16 |
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| 作者姓名： | 彭军 陈光华 |
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| 作者单位： | [1]兰州大学物理系 [2]北京工业大学应用物理系 |
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| 摘 要： | ＣＮＸ薄膜是一种新型的超硬膜。我们用等离子增强化学气相淀积法，制备了含氮量的２１ａｔ％的ＣＮＸ膜，并用俄歇电子探针，红外谱仪和拉曼光谱仪及Ｘ光衍射仪对其结构进行了研究。结果表明膜听屡元素主要以Ｃ≡Ｎ，Ｃ＝Ｂ，Ｃ－Ｎ键的形成与碳结合。
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| 关 键 词： | 薄膜 气相淀积 氮化碳 PCVD 制备 |
CARBON NITRIDE FILM PREPARED BY PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND STRUCTURE STUDY |
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| PENG Jun,PENG Yingquan,YAO Jianghong,CHEN Guanghua. CARBON NITRIDE FILM PREPARED BY PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND STRUCTURE STUDY[J]. Journal of Gansu Sciences, 1996, 8(3): 14-16 |
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| Authors: | PENG Jun PENG Yingquan YAO Jianghong CHEN Guanghua |
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| Keywords: | Carbon nitride thin films Structural analyze Vapor deposition |
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