聚乙烯吡咯烷酮辅助制备Ni膜层的结构表征及电化学性能研究

采用聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为唯一的络合剂,通过简单的化学镀在热轧态AZ31表面沉积一系列Ni涂层。通过X射线衍射、扫描电镜及电子能谱对膜层的结构、微观形貌和成分进行了分析,结果显示:这些膜层由大量结晶性较好的金属Ni和少量无定型的Ni-P组成;SEM的横截面图片显示,膜层的厚度随PVP溶液的浓度提高先增加后减少。膜层的腐蚀行为通过在质量分数为3.5%的NaCl溶液中测得,用极化曲线和阻抗来表征,结果显示:当PVP质量浓度为10g/L时,极化曲线显示极小的自腐蚀电流密度(1.29μA/cm2),并且有较高的极化电阻(73 581Ω·cm2),这预示着的膜层展现较好的耐蚀性。