| 工艺参数对Ni-SiC纳米复合镀层沉积速率的影响 |
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| 引用本文： | 王琳,孙本良,王兴隆,张乐. 工艺参数对Ni-SiC纳米复合镀层沉积速率的影响[J]. 辽宁科技大学学报, 2011, 34(6): 561-564 |
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| 作者姓名： | 王琳 孙本良 王兴隆 张乐 |
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| 作者单位： | 辽宁科技大学材料与冶金学院,辽宁鞍山,114051;辽宁科技大学材料与冶金学院,辽宁鞍山,114051;辽宁科技大学材料与冶金学院,辽宁鞍山,114051;辽宁科技大学材料与冶金学院,辽宁鞍山,114051 |
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| 基金项目： | 辽宁省教育厅重点实验室资助项目(2008S123) |
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| 摘 要： | 用电沉积的方法在铜表面制备了Ni-SiC纳米复合镀层,研究了不同的工艺参数,包括阴极电流密度、镀液中纳米SiC悬浮量、镀液pH值、镀液温度和搅拌速度对复合镀层的沉积速率的影响。结果表明:在实验电流范围内,镀层的沉积速率随着阴极电流密度的增大呈线性上升的趋势;随着镀液中纳米颗粒悬浮量、镀液pH值及搅拌速度的增大而增大,当达到一定值时,又开始下降;随着镀液温度升高,逐步降低。最佳参数为:不烧焦镀层前提下的最大电流,纳米颗粒体积质量为5 g/L,pH值3.5～4.0,温度30℃,搅拌速度为中高速。
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| 关 键 词： | 纳米复合镀 工艺参数 沉积速率 |
Influences of technological parameters on deposition rate of Ni-SiC nano-composite |
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| WANG Lin,SUN Ben-liang,WANG Xing-long,ZHANG Le. Influences of technological parameters on deposition rate of Ni-SiC nano-composite[J]. Journal of University of Science and Technology Liaoning, 2011, 34(6): 561-564 |
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| Authors: | WANG Lin SUN Ben-liang WANG Xing-long ZHANG Le |
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| Affiliation: | (School of Materials and Metallurgy,University of Science and Technology Liaoning,Anshan 114051,China) |
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