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| 磁控溅射制备纳米Ni-Al薄膜的表面粗糙度和电阻率的研究 | |
| 引用本文： | 王晶,余花娃. 磁控溅射制备纳米Ni-Al薄膜的表面粗糙度和电阻率的研究[J]. 西安工程科技学院学报, 2009, 23(4) |
| 作者姓名： | 王晶 余花娃 |
| 作者单位： | 西安工程大学,理学院,陕西,西安,710048 |
| 摘 要： | 研究了在纳米厚度范围内,Ni-Al薄膜的电阻率与表面粗糙度的关系. 利用直流磁控溅射方法,使用高纯度(99.99%)的Ni 、Al靶, 通入Ar气制备了Ni-Al薄膜,薄膜的厚度为15nm～140nm. 在室温下通过直线四探针和原子力显微镜测量了不同厚度Ni-Al薄膜的电阻率和表面粗糙度,结果表明电阻率变化和表面粗糙度成近似线性关系. |
| 关 键 词： | Ni-Al薄膜 磁控溅射 粗糙度 电阻率 |
Study on surface roughness and resistivity of nano Ni-Al by magnetron sputtering |
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