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后退火对C/CoCrPt/Ti颗粒膜的微结构和磁特性的影响
引用本文:彭燕,钮计彬,孙会元,胡骏,封顺珍,张罕玮,张玉杰,胡彦英.后退火对C/CoCrPt/Ti颗粒膜的微结构和磁特性的影响[J].河北师范大学学报(自然科学版),2007,31(4):460-462,478.
作者姓名:彭燕  钮计彬  孙会元  胡骏  封顺珍  张罕玮  张玉杰  胡彦英
作者单位:河北师范大学,物理科学与信息工程学院,河北,石家庄,050016;河北师范大学,物理科学与信息工程学院,河北,石家庄,050016;河北师范大学,物理科学与信息工程学院,河北,石家庄,050016;河北师范大学,物理科学与信息工程学院,河北,石家庄,050016;河北师范大学,物理科学与信息工程学院,河北,石家庄,050016;河北师范大学,物理科学与信息工程学院,河北,石家庄,050016;河北师范大学,物理科学与信息工程学院,河北,石家庄,050016;河北师范大学,物理科学与信息工程学院,河北,石家庄,050016
基金项目:国家自然科学基金 , 河北省教育厅科研项目 , 河北师范大学校科研和教改项目
摘    要:在室温下,采用射频溅射模式和直流对靶溅射模式制备了C(60 nm)/CoCrPt(30 nm)/Ti(60 nm)系列薄膜.样品在高真空条件下进行30 min后退火,退火温度分别为RT(室温),300,500,600 ℃.研究表明,后退火处理对样品的微结构和磁特性有很大的影响.VSM测量结果显示,当ta=300 ℃时,垂直膜面矫顽力达到最大(131 kA/m);扫描探针显微镜(SPM)观察结果显示,样品的平均粒径最小为9.6 nm.

关 键 词:矫顽力  退火  磁性颗粒膜
文章编号:1000-5854(2007)04-0460-03
修稿时间:2007-03-15

Effect Annealed Temperature on Magnetic Properties and Microstructures of C/CoCrPt/Ti Film
PENG Yan,NIU Ji-bin,SUN Hui-yuan,HU Jun,FENG Shun-zhen,ZHANG Han-wei,ZHANG Yu-jie,HU Yan-ying.Effect Annealed Temperature on Magnetic Properties and Microstructures of C/CoCrPt/Ti Film[J].Journal of Hebei Normal University,2007,31(4):460-462,478.
Authors:PENG Yan  NIU Ji-bin  SUN Hui-yuan  HU Jun  FENG Shun-zhen  ZHANG Han-wei  ZHANG Yu-jie  HU Yan-ying
Institution:Collage of Physics Science and Information Engineering,Hebei Normal University,Hebei Shijiazhuang 050016,China
Abstract:
Keywords:coercivity  annealing  nonogranular films
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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