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| BiTiO3单晶电致疲劳裂纹扩展的原子力显微镜研究 | |
| 引用本文： | 王芳,宿彦京,何健英,乔利杰,褚武扬.BiTiO3单晶电致疲劳裂纹扩展的原子力显微镜研究[J].科学通报,2005,50(20):2296-2299. |
| 作者姓名： | 王芳 宿彦京 何健英 乔利杰 褚武扬 |
| 作者单位： | 北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083 |
| 基金项目： | 本工作为国家自然科学基金(批准号: 50571011)、教育部重点基金(批准号: 104021)资助项目. |
| 摘 要： | 利用原子力显微镜(AFM)原位研究了BaTiO3单晶压痕裂纹电致疲劳的扩展过程, 以及交变电场引起的畴变和疲劳裂纹扩展的相关性. 结果表明, 正负交变电场并不引起裂纹尖端电畴的交替变化, 而是在裂纹周围发生随机转变, 随着电场交变次数的增加, 止裂裂纹重新起裂扩展. |
| 关 键 词： | AFM 畴变 电致疲劳裂纹 |
| 收稿时间： | 2004-10-22 |
| 修稿时间： | 2004年10月22 |
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