BiTiO3单晶电致疲劳裂纹扩展的原子力显微镜研究 |
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作者姓名: | 王芳 宿彦京 何健英 乔利杰 褚武扬 |
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作者单位: | 北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083 |
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基金项目: | 本工作为国家自然科学基金(批准号: 50571011)、教育部重点基金(批准号: 104021)资助项目. |
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摘 要: | 利用原子力显微镜(AFM)原位研究了BaTiO3单晶压痕裂纹电致疲劳的扩展过程, 以及交变电场引起的畴变和疲劳裂纹扩展的相关性. 结果表明, 正负交变电场并不引起裂纹尖端电畴的交替变化, 而是在裂纹周围发生随机转变, 随着电场交变次数的增加, 止裂裂纹重新起裂扩展.
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关 键 词: | AFM 畴变 电致疲劳裂纹 |
收稿时间: | 2004-10-22 |
修稿时间: | 2004-10-22 |
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