酸性铬蓝K修饰电极的制备及其对抗坏血酸的测定 |
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作者姓名: | 陈彦玲 赵鹏 王一展 |
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作者单位: | 长春师范大学化学学院,吉林长春,130032 |
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摘 要: | 应用电化学方法将酸性铬蓝K固定在玻碳电极( GCE)表面上而制备出新型的修饰电极,并用循环伏安法对其电化学行为进行表征,考察了其对抗坏血酸的电催化性能。结果表明:在HAc-NaAc缓冲溶液(pH=3.6)中,-200-800 mV电位扫描范围内,抗坏血酸在此修饰电极上发现有一个氧化峰,并且此峰的高度和抗坏血酸的浓度成正比关系。在选定的最佳条件下,氧化峰电流与抗坏血酸的浓度在8×10^-8-1×10^-3 mol·L^-1范围内有良好的线性关系(R=0.9992),检出限为2×10^-8mol·L^-1(信噪比3∶1),并用于实际样品分析中,得到较满意的结果。
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关 键 词: | 修饰电极 电沉积 循环伏安法 抗坏血酸 |
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