终成正果贵在坚持——对CVD金刚石膜研究工作的回顾 |
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作者姓名: | 罗廷礼 |
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作者单位: | 河北省激光研究所,河北,石家庄,050081 |
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摘 要: | 100kW级直流等子体喷射化学气相沉积金刚石膜设备的研制成功,使我们成为继美国两家公司之后第三家能独立开发此种设备的单位,具有独创性和实用性。由于多年来的不断努力,我们不仅一直位于该项技术领域的前沿,而且也取得了很好的市场效果。金刚石膜制备工作因贵在坚持而终成正果。通过忆往昔,看今朝,思明日,对以往工作的简单回顾,来纪念院庆30周年。
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关 键 词: | 化学气相沉积 金刚石膜 体积磨耗比 |
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