| 钛酸铅铁电薄膜的表面层 |
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| 引用本文： | 刘卫国.钛酸铅铁电薄膜的表面层[J].科学通报,1995,40(17):1625-1625. |
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| 作者姓名： | 刘卫国 |
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| 作者单位： | 西安交通大学电子材料研究室 西安710049
(刘卫国，孔令兵，张良莹)，西安交通大学电子材料研究室 西安710049(姚熹) |
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| 基金项目： | 国家“八六三”计划资助项目 |
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| 摘 要： | 大量的实验和理论分析表明:铁电体(包括块体和薄膜材料)都具有一个与体内性质不同的表面层.表面层的存在对铁电体的性质有显著的影响,如介电常数峰值降低,Curie温度偏移,相变点以上仍能观察到热释电效应等.表面层对铁电薄膜性质的影响更加显著,如单晶钛酸钡薄膜的相变表现出弥散特性、介电常数偏低、矫顽场强偏大等.用掠射角X射线衍射法(Glancing angle X-ray diffraction)(GAXRD)可以分析材料浅表层的结构特征,以区分表层与体内的结构差异.
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| 关 键 词： | 铁电薄膜 表面层 应变 钛酸铅 铁电体 薄膜 |
| 收稿时间： | 1994-09-05 |
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